Elektrikli Isıtma Tüpü Elektrokaplamanın Fiziksel Buhar Biriktirme

Elektrikli Isıtma Tüpü Elektrokaplamanın Fiziksel Buhar Biriktirme

2.5.1 Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD)

Fiziksel buhar biriktirme, katı kaplama malzemelerinin çeşitli fiziksel yöntemler kullanılarak vakum koşulları altında atomik, moleküler veya iyonik buhar maddelerine dönüştürülmesi ve daha sonra katı bir ince film oluşturmak için alt tabakanın yüzeyinde biriktirilmesi işlemidir. HocheH ve ark. Almanya'dan [26], PVD işlemini kullanarak AZ91 magnezyum alaşımı üzerinde CrN ve TiN filmleri hazırladı ve ardından plazma anotlama işleminden sonra PVD işlemini kullanarak A1203 film tabakasını biriktirdi. Araştırmalar, CrN ve TiN sert seramik filmlerin, yüksek kalınlıkları ve sertlikleri nedeniyle aşınma direncini iyileştirdiğini, ancak film tabakasında gözeneklerin varlığı nedeniyle korozyon direncinin bozulduğunu bulmuştur. Buna karşılık, A1203 film tabakasının korozyon direnci, CrN film tabakasınınkinden çok daha yüksektir ve aşınma direnci de yaygın olarak kullanılan anodik oksidasyon kaplamalarından daha iyidir. AltunH [2'1 of Turkey, PVD teknolojisi ile AZ91D magnezyum alaşımı üzerine çok katmanlı AIN (AIN plus AIN plus AIN) ve AIN plus TiN filmler hazırladı. Sonuçlar, her ikisinin de alaşımın korozyon direncini iyileştirebileceğini ve birincisinin daha etkili olduğunu göstermektedir.

2.5.2 Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)

Kimyasal buhar biriktirme, ince bir film oluşturan bir veya birkaç bileşik içeren gazı bir reaksiyon odasına sokma işlemidir ve alt tabaka üzerinde kimyasal reaksiyonlar yoluyla istenen ince filmi oluşturmasına izin verir.

Fracassi ve ark. plazma ile zenginleştirilmiş CVD yöntemini kullanarak WE43 magnezyum alaşımının yüzeyinde bir sio 2 film tabakası biriktirdi. Test ve analizden sonra, biriktirilen film tabakasının empedans katsayısı, saf alt tabakanın empedans katsayısından 8000 kat daha yüksektir. Elmas benzeri karbon (DLC) film, malzemelerin mekanik ve sürtünme özelliklerini önemli ölçüde iyileştirebilen yüksek sertliği, düşük sürtünme katsayısı ve mükemmel aşınma direnci ile ünlüdür. Yamauchi} 29 ve ark. plazma CVD yöntemi kullanılarak magnezyum alaşımlı substratın yüzeyine DLC film biriktirdi. Testten sonra, filmin sürtünme katsayısını etkili bir şekilde azalttığı ve aşınma ve korozyon direncini iyileştirdiği bulundu.

Buhar biriktirme teknolojisinde kullanılan ekipman pahalıdır, ancak hazırlanan film tabakası yüksek yoğunluğa, alt tabakaya iyi yapışmaya ve güçlü yapısal tasarıma sahip çeşitli kaplama tiplerine sahiptir. Modern endüstride yaygın olarak kullanılmaktadır ve geniş gelişme umutları göstermektedir.

www.superbheater.com